400-875-1717轉(zhuǎn)865
產(chǎn)品中心
當(dāng)前位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > > 電子束，激光鍍膜儀 > CY-LDE激光鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)：CY-LDE廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家更新時(shí)間：2025-11-17訪(fǎng) 問(wèn) 量：186產(chǎn)品分類(lèi)CLASSIFICATION
詳細(xì)介紹
| 品牌 | CYKY | 價(jià)格區(qū)間 | 1-5萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 建材/家具,電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,汽車(chē)及零部件 |
激光鍍膜儀系統(tǒng)由真空腔室（主濺射室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、真空排氣、真空測(cè)量、電器控制、配氣、計(jì)算機(jī)控制等各部分組成。激光鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。
激光鍍膜儀用途：
激光鍍膜設(shè)備用于生長(zhǎng)光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體和有機(jī)化合物薄膜材料，適用于生長(zhǎng)高熔點(diǎn)、多元素及含有氣體元素的復(fù)雜層狀超晶格薄膜材料。廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。
激光鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù)：
主真空室 | 球型結(jié)構(gòu)，尺寸? 450mm | |
進(jìn)樣室 | 圓筒型立式結(jié)構(gòu)，尺寸? 150x 150mm | |
真空系統(tǒng)配置 | 主真空室 | 分子泵與機(jī)械泵，閥門(mén) |
進(jìn)樣室 | 分子泵與機(jī)械泵（與主真空室共用），閥門(mén) | |
極限壓力 | 主真空室 | ≦6*10-6Pa（經(jīng)烘烤除氣后） |
進(jìn)樣室 | ≦6*10-3Pa（經(jīng)烘烤除氣后） | |
恢復(fù)真空時(shí)間 | 主真空室 | 20分鐘可達(dá)到5*10-3Pa（系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)忾_(kāi)始抽氣） |
進(jìn)樣室 | 20分鐘可達(dá)到5*10-3Pa（系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)忾_(kāi)始抽氣） | |
旋轉(zhuǎn)靶臺(tái) | 靶材*大尺寸約60mm；可一次安裝4塊靶材，可實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)換靶;每塊靶材可自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分
| |
基片加熱臺(tái) | 樣品尺寸 | ?51 |
運(yùn)動(dòng)方式 | 基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分 | |
加熱溫度 | 基片加熱zui高溫度800Ｃ±1 C，可控可調(diào) | |
氣路系統(tǒng) | 質(zhì)量流量控制器1路，充氣閥1路 | |
可選部件 | 激光器裝置 | 配相干201激光器 |
激光束掃描裝置 | 二維掃描機(jī)械平臺(tái)，執(zhí)行兩自由度掃描 | |
計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng) | 控制的內(nèi)容主要有公轉(zhuǎn)換靶，靶自轉(zhuǎn)，樣品自轉(zhuǎn)、樣品控溫、激光束掃描等 | |
設(shè)備占地面積 | 主機(jī) | 1800 * 1800mm2 |
電控柜 | 700 *700mm2（1個(gè)）
| |
免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)，僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r(shí)，會(huì)造成所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異，請(qǐng)與本公司銷(xiāo)售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，本公司會(huì)不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知，請(qǐng)您見(jiàn)諒。
產(chǎn)品咨詢(xún)
掃碼加微信