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鹵素?zé)鬜TP立式快速退火爐是一款8寸片快速退火爐,采用革新的加熱技術(shù),可實現(xiàn)真正的基底溫度測量,不需要采用傳統(tǒng)快速退火爐的溫度補償,溫度控制**,溫度重復(fù)性高,客戶包括國際上許多半導(dǎo)體公司及科研團(tuán)隊,是半導(dǎo)體制程退火工藝的理想選擇
高真空晶圓RTP快速退火爐由我公司自主研發(fā)的功能強大的加熱設(shè)備。該產(chǎn)品采用進(jìn)口紅外線加熱管加熱,造型新穎結(jié)構(gòu)合理,爐體和爐管可以自由滑動,可實現(xiàn)快速升降溫
1200℃RTP退火爐是一款12寸片快速退火爐,采用革新的加熱技術(shù),可實現(xiàn)真正的基底溫度測量,不需要采用傳統(tǒng)快速退火爐的溫度補償,溫度控制**,溫度重復(fù)性高,客戶包括國際上許多半導(dǎo)體公司及科研團(tuán)隊,是半導(dǎo)體制程退火工藝的理想選擇
RTP快速退火爐管式主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。RTP快速退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物
RTP快速退火爐管式主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。
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